Pramono, Agus and Milandia, Anistasia and Suryana, Suryana and Sihotang, Andri SIMULASI PROSES SELF-PROPAGATING INTERMEDIATE- TEMPERATURE SYNTHESIS (SIS) UNTUK MENGETAHUI PERILAKU REAKSI EKSOTERMIS. Technical Report. Fakultas Teknik Untirta. (Unpublished)

Text Laporan Kemajuan Penelitian Mandiri Desember 2023 -2.pdf Download (2MB)

Abstract

Self-Propagating Intermediate-Temperature Synthesis (SIS) adalah metode proses yang memanfaatkan reaksi eksotermik dengan penambahan tekanan untuk memulai dan mempertahankan pembakaran komponen sehingga dapat menghasilkan nilai porositas yang rendah serta kekerasan yang tinggi. Fenomena perpindahan panas perlu diketahui karena SIS mempunyai kelemahan yaitu tingginya tingkat eksotermik dan laju pembakaran yang sangat cepat dan memerlukan tingkat kontrol yang tinggi. Selain itu, penekanan atau kompaksi perlu dilakukan karena pada metode SIS diharapkan hasil distribusi kerapatan partikel yang homogen. Pada penelitian berfokus untuk mendapatkan temperatur dan waktu yang paling efektif untuk dilakukannya proses pemanasan metode SIS dengan menggunakan software ANSYS 2022 R2 berbasis finite element analysis untuk mengetahui temperatur dan heat flux selama proses pemanasan, menggunakan software HSC untuk mengetahui entalpi reaksi eksotermik pembentukan spinel (MgAl_( 2) O_( 4)), dan software chem draw untuk mengetahui ikatan kimia yang terbentuk pada produk SIS. Simulasi penekanan yang terjadi menggunakan tekanan 166 MPa, 171 MPa, dan 176 MPa dengan waktu 300 detik dan menghasilkan pengaruh terhadap normal stress. Simulasi perpindahan panas yang terjadi menggunakan temperatur 750 °C, 850 °C, dan 950 °C dengan waktu proses masing-masing temperatur yaitu 1 jam, 2 jam, dan 3 jam dan menghasilkan pengaruh terhadap heat flux dan distribusi temperatur. Sampel yang diberikan tekanan 176 MPa menghasilkan normal stress tertinggi yaitu sebesar -144,97 MPa. Sampel yang diproses dalam temperatur 750 °C dengan waktu 3 jam menghasilkan heat flux paling rendah di antara variasi temperatur dan waktu proses yang lain yaitu sebesar 0,000016722 W/m^2serta distribusi temperatur maksimalnya sebesar 750 °C.

Actions (login required)

View Item